氯硅烷是一种与含有活性氢的化合物发生剧烈反应的化学品。
氯硅烷能与含有活性氢的化合物(如水、醇、苯酚、硅醇、有机酸等)剧烈反应,释放氯化氢。
当与有机金属化合物反应时,氯原子被相应的有机基团取代,形成有机氯硅烷或有机硅烷。
用作硅外延晶片生产中的硅源和制备有机氯硅烷的原料。
熔点为-118 DHS C,沸点为4 DHS C,蒸气压为4920 MMHG(25℃)。
氯硅烷能与含有活性氢的化合物(如水、醇、苯酚、硅醇、有机酸等)剧烈反应,释放氯化氢。
当与有机金属化合物反应时,氯原子被相应的有机基团取代,形成有机氯硅烷或有机硅烷。
用作硅外延晶片生产中的硅源和制备有机氯硅烷的原料。
此外,SiCl4和HSiCl3是提取高纯度硅的中间体。分馏后可得到纯度为99.99999999%的硅。
硅微粉与氯化氢在290~400℃反应可制得。在氯化亚铜存在下,在250℃左右,硅粉与氢气和氯化氢反应也可制得。